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    沈阳芯源微电子设备股份有限公司
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    装备制造业-生产机构
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    沈阳市浑南新区飞云路 16 号
KS-S300-E 单片湿法刻蚀机

KS-S300-E 单片湿法刻蚀机

        满足半导体制造中湿法刻蚀工艺,单片加工,适用于SiO2,SiN,Polysilicon和各种金属层的刻蚀,清洗和去胶等工艺流程。 1.采用独特的夹持技术,在夹持硅片的同时,硅片的另一面被气体有效的保护,不被化学液所污染. 2.利用位置、速度可控的摆臂喷洒化学液,可以有效的提高刻蚀均匀性. 3.分层式反应腔体设计,可以在同一腔体中喷洒多种化学液,并能有效回收,节约化学液.

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商品介绍

满足半导体制造中湿法刻蚀工艺,单片加工,适用于SiO2,SiN,Polysilicon和各种金属层的刻蚀,清洗和去胶等工艺流程。
1.采用独特的夹持技术,在夹持硅片的同时,硅片的另一面被气体有效的保护,不被化学液所污染.
2.利用位置、速度可控的摆臂喷洒化学液,可以有效的提高刻蚀均匀性.
3.分层式反应腔体设计,可以在同一腔体中喷洒多种化学液,并能有效回收,节约化学液.
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